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清溢光電業績快報出爐:第四季度扣非歸母凈利環比大增69.95%,半導體掩膜板技術持續突破
來源:證券時報網2025-02-26 19:18

2月26日,清溢光電(688138.SH)發布2024年業績快報。根據公司公告,2024年清溢光電實現營業收入11.12億元,同比增長20.35%;歸母凈利潤1.72億元,同比增長28.80%;扣非歸母凈利潤1.54億元,同比增長36.49%。環比數據來看,2024年四季度公司營業收入、歸母凈利潤、扣非歸母凈利潤分別比三季度增長7.39%、64.67%、69.95%。2024年公司利潤增幅高于營收增幅,半導體掩膜版收入占比提升,顯示掩膜版的高端化也呈現良好態勢。

作為中國掩膜版行業的開拓者,公司抓住了國產替代和自主可控的歷史性機遇,憑借領先的技術水平和多年積累的客戶資源,持續優化產能結構,聚焦中高端掩膜版的技術升級和產能布局。值得一提的是,公司擬定增募資12億元投向高精度掩膜版及高端半導體掩膜版生產基地項目一期建設,該定增申請已于2025年2月21日獲上交所審核通過,為公司未來的產能擴張和技術升級提供了有力支持。

平板顯示掩膜版趨向“高精度、大尺寸、多層化” 公司技術觸達國際先進水平

隨著消費者對顯示產品需求的不斷提高,平板顯示行業迎來了新的技術挑戰和發展機遇。據IHS預測,未來顯示屏的顯示精度將從450PPI逐步提升至650PPI以上,這不僅要求更高的半導體層和光刻分辨率,還對最小過孔、CD均勻性、套合精度、缺陷大小及潔凈度等技術指標提出了更高要求。

在行業發展的大趨勢下,清溢光電憑借其領先的技術實力,已經攻克了高精度平板顯示掩膜版的關鍵技術難題。公司自主開發的生產管理系統、圖形處理軟件、Mura控制技術、精細圖形bias補正、斜線補正、Distortion、Z-correction、二次對位及精密坐標校正等技術,均達到國際先進水平,并在國內處于領先地位。

目前,清溢光電的TFT-LCD掩膜版和AMOLED/LTPS掩膜版的關鍵指標,如CD精度和位置精度,已與國際主流水平接軌。這標志著公司在高精度平板顯示掩膜版領域的技術實力已達到國際一流水平,能夠滿足未來顯示產品對精細化、高分辨率的需求。

除了精度以外,高世代面板亦帶動了掩膜版尺寸大型化的趨勢。隨著電視平均尺寸的增加以及大屏手機、車載顯示和公共顯示等需求的拉動,大尺寸屏幕市場持續增長,全球平板顯示面板產業正朝著8+代線和10+代線邁進。

2024年,清溢光電持續精進平板顯示掩膜版技術工藝,進一步掌握了8.6代a-Si、6代AMOLED、LTPS顯示等核心技術,并充分利用合肥清溢光電現有廠房資源,規劃增加生產線,擴大AMOLED和HTM掩膜版的產能。同時,清溢光電計劃引入PSM掩膜版的生產,進一步擴大AMOLED、AR/VR等高端掩膜版的生產能力。這一戰略布局將加速公司在HTM、OPC、PSM等先進技術領域的研發和量產進程,有望進一步填補PSM產品在技術領域的空白。

晶圓廠國產替代需求旺盛 半導體掩膜版工藝突破勢在必行

近期,A股市場掀起“科技”熱潮,“AI+國產化趨勢”的相關概念尤為引人注目。隨著 AI手機、 AIPC等 AI應用終端的不斷增長,半導體產業的規模將會繼續擴大,特別是在目前的產能和庫存周期下,目前的晶圓代工廠的產能利用率不斷提高,而芯片制造商和渠道商的庫存卻一直處于低位,加之“AI+”帶來的終端需求激增,未來有望帶動半導體產業進入新一輪上行周期。

然而,隨著海外對華實施半導體出口管制的措施日益趨嚴,全球半導體供應鏈的不確定性仍在進一步加劇。其中,臺積電已于去年11月宣布暫停向中國大陸AI/GPU客戶供應7納米及更先進工藝的芯片,國內晶圓產業的自主可控無疑是勢在必行。在行業需求回暖疊加自主可控提速的趨勢背景下,本土頭部晶圓廠商的技術迭代有望為半導體掩膜版市場注入了新的增長動力,以清溢光電為代表的頭部企業有望充分受益于這一趨勢。

清溢光電作為國內掩膜版行業的領軍者,憑借其領先的技術水平和廣泛的客戶基礎,正在不斷縮小與海外競爭對手的差距,逐步打破海外巨頭的長期壟斷。同時,經過多年的行業深耕及客戶沉淀,公司的技術實力和產品品質亦受到下游客戶的廣泛認可。

目前,公司的150nm工藝節點半導體芯片掩膜版亦已實現量產,并在重點客戶拓展方面取得突破。值得注意的是,清溢光電于年內建立了130nm工藝測試平臺,致力于推進130nm—65nm的PSM和OPC工藝的掩膜版開發,以及28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發規劃,著手先進制程的技術攻關,朝著高端制程的發展目標穩步前進。

從長期趨勢來看,隨著半導體產業自主可控進程的加速,半導體掩膜版行業有望迎來顯著的增長機遇。清溢光電長期以來堅持“技術創新驅動”的發展戰略,緊密圍繞行業發展趨勢和國家產業政策,不斷提升半導體芯片掩膜版的工藝研發能力和產品競爭力,為提升半導體掩膜版的國產化水平作出了重要貢獻,未來有望繼續引領半導體芯片掩膜版的自主可控進程。

責任編輯: 張一帆
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